Instruments

磁控濺鍍機

  • Placement:R3007
  • Controller:沈炳臣
Instrument code
Brand model
Instrument function 使用電漿對靶材進行離子轟擊,將靶材表面的原子撞擊出來。這些原子以氣體分子型式發射出來,並到達所要沉積的基板上,再經過附著、吸附、表面遷徙、成核等過程之後,在基板上成長形成薄膜。
Specification
Service item
Precautions
LINK
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